半导体酸性废气来源：

半导体行业的酸性废气主要来自清洗过程，其中使用的清洗剂溶剂中含有大量的酸性废气，主要成分为硝酸、硫酸、氢氟酸等，其中大部分通过挥发成废气排放。

半导体酸废气处理方法：

碱液二次喷淋法，又称化学洗涤法。

由于液体本身的溶解特性，可以更好地利用酸碱中和去除污染物，达到大气排放标准，喷涂法是半导体行业酸碱废气处理的主要处理方法。

半导体酸性废气处理原理：

废气通过设备直接连接收集，在风机的作用下连续输送到净化设备，然后通过通风管道输送，使废气输送到系统喷淋塔，喷淋塔内气体经过碱性洗液喷淋洗涤过程，废气中容易产生酸雾的气体成分与碱性水雾充分混合，中和反应，形成良好的气液交和。喷雾后，水雾在洗涤塔填料层中形成多孔接触面较大的处理层，进一步处理酸雾。

半导体酸性废气处理设备优点：

⑴半导体酸性废气处理设备工艺简单，成本低，运行成本低，安装方便，耐腐蚀；

⑵性能稳定，除尘效率高，脱硫效果好；

⑶重量轻，安装、运输、维护管理方便；

⑷特别适用于水溶性含尘气体；